公募情報
- No：773
- 掲載日：2023年12月27日
- 最終更新日：2023年12月28日(木) 15時39分
- [間接経費：※公募要領をご確認下さい]
省庁関連国立研究開発法人科学技術振興機構（JST）2023年度「次世代半導体微細加工プロセス技術」に関する研究開発構想（プロジェクト型）
- 対象分野
対象課題 - （1）拠点研究開発
（2）EUV露光用 次世代革新 光源の開発
（3）光源、光学系、材料系、計測技術等の要素技術開発
- 助成金額
- ※各々総額最大、間接経費含む。（1）100億円（2）25億円（3）10億円
- 助成期間
- 研究開発開始～原則5年（60カ月）以内
- 学内締切
- 2024年02月20日※提案書を担当までご提出ください。準備中の場合はご相談ください。
- 提出期限
- 2024年03月05日 12時00分e-Rad
- 問合せ先
- <研究推進課>（文京・敦賀）
研究企画管理・知的財産担当（研究協力）
0776-27-8880（内線：文京2057、2943）
rp-kenkyo@ml.u-fukui.ac.jp
＜松岡キャンパス研究推進課＞（松岡）
研究企画管理担当
0776-61-8189（内線：松岡2028）
m-kenkyu@ml.u-fukui.ac.jp
- 問合せメール
- rp-kenkyo@ml.u-fukui.ac.jp